申请/专利权人：朗姆研究公司 - 专利清单
- 专利分析报告
- 商标清单
- 商标分析报告
- 集成电路
- 工商信息/查询
| 申请日：2017-01-23 |
| 发明/设计人：马尼什·兰詹;奇安·斯威尼;尚蒂纳特·古艾迪 | 公开（公告）日：2025-03-18 |
| 代理机构：上海胜康律师事务所 | 公开（公告）号：CN111739814B |
| 代理人：李献忠;邱晓敏 | 主分类号：H01L21/66 |
| 地址：美国加利福尼亚州 | 分类号：H01L21/66;H01L21/67;H01L21/3205 |
| 专利状态码：有效-授权 | 优先权：["20160129 US 15/011,363"] |
| 法律状态：2025.03.18#授权 2020.10.30#实质审查的生效 2020.10.02#公开 |
| 摘要：本发明涉及通过颜色感测估计晶片上氧化物层还原效率的方法和装置。公开了制备具有用于随后电镀操作的金属晶种层的半导体衬底的方法。在一些实施方式中，该方法可以包括：使所述半导体衬底的表面与等离子体接触，以通过还原在该表面上的金属氧化物来处理该表面，之后，从所述表面测量等离子体接触后的颜色信号，所述颜色信号具有一个或多个颜色分量。所述方法然后可以进一步包括：基于所述等离子体接触后的颜色信号估计由于所述等离子体处理而导致的氧化物还原的程度。在一些实施方式中，基于所述等离子体接触后的颜色信号的b*分量来估计由于所述等离子体处理而导致的所述氧化物还原的程度。还公开了可以实现前述方法的等离子体处理装置。 |
| 主权项：1.一种用于还原存在于准备用于随后的电镀操作的半导体衬底的金属晶种层的表面上的金属氧化物的等离子体处理装置，所述等离子体处理装置包括：/n-处理室，在所述处理室内具有至少一个处理站；/n-衬底保持器，其构造成将衬底保持在所述处理站处；/n-等离子体产生器，其构造成产生在所述处理室内的等离子体并且/或者将所述等离子体提供给所述处理室；/n-颜色传感器，其被配置为从衬底测量颜色信号，所述颜色信号具有一个或多个颜色分量；以及/n-具有非暂时性计算机可读指令的控制器，所述非暂时性计算机可读指令用于：/n-操作所述等离子体产生器以产生在所述处理室内的等离子体并且/或者将所述等离子体提供给所述处理室，使得所述等离子体在所述处理站接触衬底的表面，以通过还原在所述表面上的金属氧化物来处理所述表面；/n-在所述等离子体与所述衬底的表面接触之后，操作所述颜色传感器以从所述表面测量等离子体接触后的颜色信号，所述颜色信号具有一个或多个颜色分量；以及/n-基于所述等离子体接触后的颜色信号估计由于所述等离子体处理而导致的所述氧化物还原的程度，/n其中估计由于所述等离子体处理而导致的所述氧化物还原的所述程度包括：将所述等离子体接触后的颜色信号与一个或多个基准颜色信号进行比较。/n |
IP会员剩余免费次数：次 
风格一
风格二
风格三
风格四
风格五
风格六
风格七
风格八
风格九
