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BS.215598709-Enhancement Planar MOS_W18- 杭州芯迈半导体技术有限公司

2022年05月13日，国家知识产权局在集成电路布图设计专用权公告中公布了登记号为 BS.215598709的集成电路，该集成电路名称为 Enhancement Planar MOS_W18，由杭州芯迈半导体技术有限公司作为布图设计权利人。

集成电路布图设计专用权公告具体内容如下：

布图设计登记号：

BS.215598709

布图设计申请日：

2021年08月13日

公告日期：

2022年05月13日

公开（公告）号：

52573

布图设计名称：

Enhancement Planar MOS_W18

布图设计结构：

MOS-Optical-IC

布图设计技术：

CMOS-NMOS

布图设计功能：

其他

布图设计权利人：

杭州芯迈半导体技术有限公司

布图设计权利人国籍：

中国

布图设计创作人：

孙鹤

布图设计创作完成日：

2020年12月21日

代理人：

-

代理机构：

-

商业用途开始日期：

-

布图设计权利人地址：

浙江省杭州市浙江省杭州市滨江区西兴街道联慧街6号

杭州芯迈半导体技术有限公司的其他集成电路

同日公布集成电路设计

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