更多菜单

BS.125010745-BY1021- 中国兵器工业集团第二一四研究所苏州研发中心

2012年12月05日，国家知识产权局在集成电路布图设计专用权公告中公布了登记号为 BS.125010745的集成电路，该集成电路名称为 BY1021，由中国兵器工业集团第二一四研究所苏州研发中心作为布图设计权利人。

集成电路布图设计专用权公告具体内容如下：

布图设计登记号：

BS.125010745

布图设计申请日：

2012年08月10日

公告日期：

2012年12月05日

公开（公告）号：

6577

布图设计名称：

BY1021

布图设计结构：

Bipolar

布图设计技术：

TTL

布图设计功能：

其他

布图设计权利人：

中国兵器工业集团第二一四研究所苏州研发中心

布图设计权利人国籍：

江苏

布图设计创作人：

吕江萍、赵杰、胡传菊、刘霞、刘成玉、陈洁、王丽丽、陈超

布图设计创作完成日：

2011年12月30日

代理人：

董建林

代理机构：

南京纵横知识产权代理有限公司

商业用途开始日期：

-

布图设计权利人地址：

江苏省苏州市高新区龙山路89号

中国兵器工业集团第二一四研究所苏州研发中心的其他集成电路

同日公布集成电路设计

拖动滑块完成拼图

Document

拖动滑块完成拼图

订单

风格一
风格二
风格三
风格四
风格五
风格六
风格七
风格八
风格九