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BS.125006306-过流过压集成保护电路LT200M- 上海光宇睿芯微电子有限公司

2012年07月20日，国家知识产权局在集成电路布图设计专用权公告中公布了登记号为 BS.125006306的集成电路，该集成电路名称为过流过压集成保护电路LT200M，由上海光宇睿芯微电子有限公司作为布图设计权利人。

集成电路布图设计专用权公告具体内容如下：

布图设计登记号：

BS.125006306

布图设计申请日：

2012年05月10日

公告日期：

2012年07月20日

公开（公告）号：

6142

布图设计名称：

过流过压集成保护电路LT200M

布图设计结构：

其他

布图设计技术：

其他

布图设计功能：

其他

布图设计权利人：

上海光宇睿芯微电子有限公司

布图设计权利人国籍：

上海

布图设计创作人：

黄蕾

布图设计创作完成日：

2011年10月20日

代理人：

卢刚

代理机构：

上海晨皓知识产权代理事务所（普通合伙）

商业用途开始日期：

-

布图设计权利人地址：

上海市张衡路200弄3号401室

上海光宇睿芯微电子有限公司的其他集成电路

同日公布集成电路设计

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