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BS.115010459-红外焦平面非均匀性校正SOC- 华中科技大学

2012年03月16日，国家知识产权局在集成电路布图设计专用权公告中公布了登记号为 BS.115010459的集成电路，该集成电路名称为红外焦平面非均匀性校正SOC，由华中科技大学作为布图设计权利人。

集成电路布图设计专用权公告具体内容如下：

布图设计登记号：

BS.115010459

布图设计申请日：

2011年10月20日

公告日期：

2012年03月16日

公开（公告）号：

5393

布图设计名称：

红外焦平面非均匀性校正SOC

布图设计结构：

MOS

布图设计技术：

CMOS

布图设计功能：

逻辑

布图设计权利人：

华中科技大学

布图设计权利人国籍：

武汉

布图设计创作人：

张天序、桑红石、袁雅婧、陈鹏、赵华龙、廖定彬、高伟、李洁珺、张志、张静、胡孔阳

布图设计创作完成日：

2010年03月05日

代理人：

李智

代理机构：

华中科技大学专利中心

商业用途开始日期：

-

布图设计权利人地址：

湖北省武汉市洪山区珞瑜路1037号

华中科技大学的其他集成电路

同日公布集成电路设计

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